表面分析技术（XPS/UPS/LEIPS）特点及其在光电器件研究中的应用

报告题目：表面分析技术（XPS/UPS/LEIPS）特点及其在光电器件研究中的应用

报告人：鞠焕鑫

报告时间：2021年12月28日（星期二）15：00

报告地点：西南石油大学光伏院学术报告厅（逸夫楼C207）

报告简介：

光电器件中界面相互作用以及界面电子结构与器件性能之间构效关系的研究，是指导构建高效器件的重要研究内容。基于能谱技术的多项表面分析技术（XPS -UPS-LEIPS），可以提供包括芯能级、价带和导带的全面电子结构信息，同时结合多种溅射离子源实现对无机材料以及有机材料进行逐层解析的深度分析，将为光电器件表界面构效关系的研究提供强有力的技术支持。

在本报告中，鞠焕鑫博士将讲述能谱技术（XPS/UPS/LEIPS）的基本原理及其相关技术特点，重点讲解数据处理过程包括谱图定量分析、化学态解析、谱图拟合以及UPS谱图分析能级排列等内容，并结合光电器件中的研究事例介绍表面分析技术在材料组分/化学态、深度分析以及能级电子结构研究中的应用。欢迎感兴趣的老师和同学来听报告，并就能谱技术问题开展深入的交流与探讨。

报告人简介：

鞠焕鑫博士，PHI (China) Limited高德英特(北京)科技有限公司应用科学家。2009年-2014年于中国科学技术大学获得学士和博士学位，毕业后在国家同步辐射实验室从事博士后研究。2012-2013年在美国华盛顿大学（西雅图）化学系David Ginger教授课题组联合培养。2016年6月-2018年10月，中国科学技术大学国家同步辐射实验室副研究员，负责中国科学技术大学国家同步辐射实验室催化与表面科学实验站的运行管理，主要从事软X射线谱学方法学研究以及能源材料/器件界面电子性质研究。在学术研究方面与用户合作在Science, Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater等期刊发表学术论文百余篇；主持/参与国家自然科学基金委青年科学基金、大科学装置联合基金培育项目和重点项目、国家重点研发计划等多个国家级科研项目。2018年11月，加入PHI (China) Limited高德英特(北京)科技有限公司，担任应用专家，负责PHI CHINA南京表面分析实验室的创建以及运行管理。